LPCVD产品特点： ◆工业计算机控制系统，对炉温、进退舟、气体流量、闸门等动作进行自动控制
◆采用悬臂送片器，操作方便、无摩擦污染等
◆关键部件均采用进口，确保设备的高可靠性
◆工艺管路采用进口阀门管件组成-气密性好、耐腐蚀、无污染（管路均采用EP级电抛光管），流量控制采用进口质量流量计（MFC）
◆工作压力闭环自动控制，提高工艺稳定性和可靠性
◆控温精度高，温区控温稳定性好
◆具有断电报警、超温报警、极限超温报警等多种安全保护功能
◆高质量的加热炉体，确保恒温区的高稳定性及长寿命
LPCVD主要技术指标：◆工作温度：300～1000℃
◆适应硅片尺寸：2～6英寸
◆装片数量：30～100片/管
◆工艺管数量：1～3管（可选择）
◆恒温区长度： 760mm±1℃（热壁式，可形成温度梯度）
◆极限真空度： 8.0× 10 -1 Pa（约6.0× 10 -3Torr）
◆工作真空度： 10 ～ 1000Pa可调
◆淀积膜均匀性：片内≤±5%
◆控制系统：整机控制系统采用工业控制计算机（WINDOWS 系统界面，操作方便简洁）
◆气源系统：进口阀管件、自动轨道焊接
欢迎索取相应详尽的技术资料及共研相应项目的解决方案。
