KRI 考夫曼离子源 KDC 10
上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 10: 考夫曼型离子源 Gridded 系列好小型号的离子源. 适用于集成在小型的真空设备中, 例如预清洗, 离子溅射, 离子蚀刻. 在 <1000eV 低能量, 通 Ar 氩气时离子蚀刻的能力显著提高.KDC 10 离子源低损伤, 宽束设计, 低成本等优点广泛应用在显微镜领域, 标准配置下 KDC 10 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 10mA.

 
KRI 考夫曼离子源 KDC 10 技术参数
		
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						 型号  | 
					
						 KDC 10  | 
				
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						 供电  | 
					
						 DC magnetic confinement  | 
				
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						 - 阴极灯丝  | 
					
						 1  | 
				
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						 - 阳极电压  | 
					
						 0-100V DC  | 
				
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						 - 栅极直径  | 
					
						 1cm  | 
				
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						 中和器  | 
					
						 灯丝  | 
				
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						 电源控制  | 
					
						 KSC 1202  | 
				
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						 配置  | 
					
						 -  | 
				
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						 - 阴极中和器  | 
					
						 Filament, Sidewinder Filament 或LFN 1000  | 
				
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						 - 架构  | 
					
						 移动或快速法兰  | 
				
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						 - 高度  | 
					
						 4.5'  | 
				
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						 - 直径  | 
					
						 1.52'  | 
				
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						 - 离子束  | 
					
						 
							集中  | 
				
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						 -加工材料  | 
					
						 
							金属  | 
				
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						 -工艺气体  | 
					
						 
							惰性  | 
				
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						 -安装距离  | 
					
						 2-12”  | 
				
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						 - 自动控制  | 
					
						 控制4种气体  | 
				
			
KRI 考夫曼离子源 KDC 10 应用领域
离子清洗, 显微镜抛光 IBP
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜) IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
			
离子蚀刻 IBE
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