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为了提高离子交换效率并获得良好的光波导特性，需要适当选择两种相互交换的离子，优化玻璃配方，控制溶液的浓度和温度，并适当的施加电场。
2) 离子注入
离子注入是一种材料表面改性技术，属于半导体行业中的一种标准加工工艺。离子注入光波导，是通过离子加速器将离子加速到数万至数十万电子伏特的高能量，轰击基片材料表面，通过原子或者分子之间的相互作用，在材料表面引起损伤或者缺陷，改变折射率，形成光波导结构。
典型的离子注入制备光波导工艺如图2所示，离子注入机通常由离子源、离子提取与预加速、磁分析器、后道加速器、电子扫描系统、离子注入腔及真空系统构成。在离子源的腔体中，通过气体放电产生的离子；被离子提取器中的电极导出并进行预加速；磁分析器控制离子束的质量，获得方向性较好的离子束；经后道加速后的离子束，在电子偏转器的控制下，注入腔体中的样品。
放入离子注入腔体中的基片材料需要预处理，根据光波导图形制备掩膜层，在离子注入之后，还需要后道处理，比如退火工艺，减小注入产生的材料缺陷对损耗的影响。
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